1、引言

隨著制造業(yè)的快速發(fā)展，高速切削和干式切削技術(shù)也得到了快速提升，對硬質(zhì)合金刀具涂層的硬度、耐磨性、抗氧化性和熱穩(wěn)定性提出了更高的要求[1]。例如，在高速切削高溫合金時，刀具涂層在切削熱應(yīng)力作用下，切削刀具的溫度可升至上千攝氏度。在這種狀態(tài)下，刀具涂層的組織結(jié)構(gòu)以及物理化學(xué)性能會發(fā)生劇烈變化，高溫破壞涂層致使涂層發(fā)生軟化，其膜基結(jié)合力以及切削性能會急劇下降，涂層甚至?xí)l(fā)生脫落，硬質(zhì)合金刀具失去涂層的保護后會快速失效[2]。因此，有必要提高刀具涂層的抗氧化性和熱穩(wěn)定性，使硬質(zhì)合金刀具在高效率、高質(zhì)量切削的同時，延長其使用壽命。

目前，國內(nèi)外學(xué)者已對刀具涂層進(jìn)行了大量的試驗研究工作，并在高溫合金切削領(lǐng)域取得巨大突破和進(jìn)展。在制備技術(shù)不斷改進(jìn)的同時，刀具涂層的種類也在發(fā)生著快速的更新?lián)Q代，朝著多元、多層、多梯度且趨于納米化的方向快速發(fā)展[3]。

2、制備方法

化學(xué)氣相沉積法（CVD）和物理氣相沉積法（PVD）是目前刀具涂層制備技術(shù)應(yīng)用中最為廣泛的方法[4]。CVD技術(shù)需要較高的壓力和溫度（450～1200℃），與PVD相比，幾乎所有類型的CVD技術(shù)都具有更高的沉積溫度和氣壓[5]。雖然20世紀(jì)80年代開發(fā)出了中溫化學(xué)氣相沉積（MTCVD）技術(shù)，但MTCVD技術(shù)的涂層沉積溫度仍高達(dá)700～900℃[6]。同時，CVD技術(shù)沉積涂層后產(chǎn)生的揮發(fā)性氣體和殘留氣體具有一定毒性，會導(dǎo)致嚴(yán)重的環(huán)境污染。以上缺點都限制了化學(xué)氣相沉積技術(shù)的應(yīng)用。CVD和PVD方法的特點對比如表1所示。

PVD物理氣相沉積是在真空條件下通過物理過程（如物質(zhì)的蒸發(fā)或表面原子在受到粒子轟擊時發(fā)生濺射等），實現(xiàn)物質(zhì)原子轉(zhuǎn)變?yōu)槌练e涂層。該技術(shù)因工藝溫度低、對環(huán)境友好、涂層成分和涂層結(jié)構(gòu)可控而廣泛應(yīng)用于鉆頭、絲錐以及車削、銑削、焊接和其它工具表面涂層。

PVD技術(shù)主要包括蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍?nèi)箢悾渲兄挥袨R射鍍和離子鍍被廣泛應(yīng)用于刀具涂層制備。在應(yīng)用PVD技術(shù)制備刀具涂層的過程中，較低的沉積溫度（350～600℃，甚至低至150℃）提高了刀具的切削性能和使用壽命。如今，單一PVD技術(shù)已不能很好解決高速切削帶來的問題，采用復(fù)合PVD技術(shù)結(jié)合不同方法和適當(dāng)?shù)募庸ろ樞蚰軌颢@得具有優(yōu)質(zhì)綜合性能的刀具涂層。

2.1磁控濺射技術(shù)

磁控濺射技術(shù)是20世紀(jì)70年代開始發(fā)展的新型濺射涂層制備技術(shù)，具有成膜速率快、沉積速率高、操作方便、膜層厚度均勻且致密等優(yōu)勢。

基本原理為：在真空環(huán)境下，向腔室內(nèi)通入一定量的惰性保護氣體（通常為氬氣），利用輝光放電過程，形成具有極高能量的粒子對靶材表面進(jìn)行轟擊，通過轉(zhuǎn)化高能粒子能量和動量，將靶材中的原子及其它粒子激發(fā)形成濺射離子，在電場作用下，這些濺射粒子沉積到基體材料表面，形成固態(tài)薄膜[7]。圖1為磁控濺射原理。

磁控濺射基于電流主要分為直流磁控濺射沉積（DCMS）、射頻磁控濺射沉積和脈沖磁控濺射沉積技術(shù)（HiPiMS）等。相較于電弧離子鍍，其主要缺陷為靶材離化率較低（約10％），在反應(yīng)濺射過程中容易發(fā)生“靶中毒”，出現(xiàn)生產(chǎn)效率較低和涂層力學(xué)性能不理想（硬度較低，膜基結(jié)合較差）的情況[9]。靶材的選擇也具有多樣性，金屬、合金和陶瓷材料等都可作為靶材。

非平衡磁控濺射技術(shù)誕生于20世紀(jì)80年代并迅速發(fā)展，在常規(guī)平衡磁控濺射基礎(chǔ)上通過改變磁場分布，在穩(wěn)定放電的同時極大提高了鍍膜區(qū)域等離子體的濃度，使鍍膜的精度和性能大大提高。非平衡磁控濺射的靶材離化率與等離子體密度均顯著提升，產(chǎn)生“離子鍍”效果，使磁控濺射技術(shù)能夠更好應(yīng)用在工業(yè)生產(chǎn)中。

2.2電弧離子鍍技術(shù)

離子鍍技術(shù)由MattoxD.M.[10]于1963年開發(fā)。離子鍍的工作原理是在特定的真空環(huán)境下，氣體或者電弧放電使靶材蒸發(fā)離化，蒸發(fā)物或反應(yīng)產(chǎn)物形成的氣相離子在轟擊作用下擴散沉積到基體表面并形成固態(tài)薄膜。目前應(yīng)用的離子鍍技術(shù)主要包括：活性反應(yīng)蒸鍍離子鍍、空心陰極離子鍍、感應(yīng)加熱離子鍍和電弧離子鍍（AiP）等，應(yīng)用最成功的是電弧離子鍍[11]。圖2為陰極電弧離子鍍原理。

電弧離子鍍技術(shù)的主要優(yōu)點包括靶材離化率高（一般為50％～90％）、致密性耐久度好和沉積效率高等[13]。同時，電弧離子鍍也存在一些技術(shù)缺陷，如電弧能量密度高，金屬靶材表面容易產(chǎn)生大顆粒熔滴，熔滴沉積至基體時會破壞涂層結(jié)構(gòu)平整性并導(dǎo)致膜基結(jié)合力下降，大顆粒熔滴還會污染薄膜；靶材需具有導(dǎo)電性，限制了靶材的選擇范圍，減少了可沉積涂層的種類；電弧離子鍍所沉積的涂層具有較大的殘余應(yīng)力[14]。

2.3新型制備技術(shù)

PVD涂層的性能主要由其微觀結(jié)構(gòu)決定，而微觀結(jié)構(gòu)又取決于涂層的化學(xué)成分和相變化，涂層制備工藝在其中起主導(dǎo)作用，因此，改良制備工藝可以極大優(yōu)化涂層性能[15]。

為了獲得高度電離的濺射材料，高功率脈沖磁控濺射（HiPiMS）技術(shù)應(yīng)運而生。HiPiMS是脈沖磁控濺射的一種，其峰值功率比傳統(tǒng)磁控濺射高2～3個數(shù)量級。高電離特性可以提供致密化和表面光滑性更顯著的微觀結(jié)構(gòu)，這使化合物涂層的機械性能、黏附程度、摩擦性能和熱穩(wěn)定性得到有效提升[16，17]。與傳統(tǒng)磁控濺射和離子鍍相比，較低的沉積速率和較差的放電可控性是HiPiMS進(jìn)一步工業(yè)發(fā)展的主要障礙。國外研究人員通過混合HiPiMS和DCMS（直流磁控濺射）來克服純HiPiMS技術(shù)的缺點，即由直流放電產(chǎn)生等離子體，在HiPiMS點火電壓開啟前的預(yù)電離階段保持較低密度且點火電壓更低，從而可以實現(xiàn)穩(wěn)定和無弧的沉積過程[18]。德國艾默康公司首次在工業(yè)涂層設(shè)備cc800上實現(xiàn)了混合HiPiMS/DCMS技術(shù)的商業(yè)化。圖3為cc800中混合HiPiMS/DCMS涂層系統(tǒng)。

當(dāng)電弧離子鍍和磁控濺射鍍均無法完美滿足需求時，結(jié)合二者優(yōu)點發(fā)展出更優(yōu)越的涂層制備方法成為必然。20世紀(jì)90年代初，荷蘭Hauzer涂層公司開始嘗試結(jié)合兩種技術(shù)，開發(fā)HauzertecHnocoating（Htc）1000-4ABS（arcbonDsputtering）涂層設(shè)備，并工業(yè)化生產(chǎn)tiN硬質(zhì)涂層[20]。

航天部511所也成功設(shè)計出多弧磁控濺射復(fù)合鍍設(shè)備[21]。采用電弧離子轟擊基體材料，使用濺射沉積獲得優(yōu)良的膜基結(jié)合力和較低的殘余應(yīng)力，進(jìn)而提高涂層的高溫性能。通過電弧/濺射復(fù)合沉積技術(shù)，利用磁控濺射Si靶，分別與ti、cr、tiAl及crAl等電弧靶進(jìn)行復(fù)合沉積，制備出具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的超硬耐磨涂層，增強刀具的性能并提高其壽命。

在過去幾十年中，PVD技術(shù)發(fā)展迅速。刀具涂層的工況環(huán)境也更加復(fù)雜和極端，切削高溫合金時，刀具不僅需要承受極高的應(yīng)力載荷，還要面對1000℃左右的高溫環(huán)境，磨料磨損、黏結(jié)磨損、化學(xué)磨損、熱疲勞和氧化等都是導(dǎo)致涂層失效的主要因素。新的涂層制備方法應(yīng)向提高涂層質(zhì)量、提高生產(chǎn)效率和減低成本的目標(biāo)前進(jìn)。基于非平衡磁控濺射的HiPiMS技術(shù)已經(jīng)成為當(dāng)今研究的熱點，在商業(yè)化應(yīng)用中也取得不錯進(jìn)展。其中S3p和Hi3技術(shù)都是將磁控濺射技術(shù)、陰極電弧技術(shù)和HiPiMS技術(shù)結(jié)合在一起，都有著不錯的優(yōu)化效果。雖然復(fù)合技術(shù)的應(yīng)用還在發(fā)展，但HiPiMS和其它磁控濺射或電弧蒸發(fā)工藝的結(jié)合給未來新型材料涂層的制備帶來更多可能。

3、切削高溫合金用涂層

隨著加工制造業(yè)的蓬勃發(fā)展，具有優(yōu)良綜合性能的高溫合金需求急劇增大，但加工艱難是其面臨的主要問題。其加工難點主要有：①高溫合金硬度高，所需切削力大，且高溫合金中存在較多的化合物硬質(zhì)點，容易導(dǎo)致刀具崩刃；②高溫合金強度較高，切削過程中會產(chǎn)生大量切削熱，高溫合金導(dǎo)熱系數(shù)僅為普通鋼的1/3，熱量無法及時散出，因此產(chǎn)生很高的切削溫度；③加工硬化現(xiàn)象嚴(yán)重，切削后表面硬度可增至基體的1～2倍。

面對以上困難，硬質(zhì)合金刀具涂層逐步向著高硬度、良好化學(xué)穩(wěn)定性、高溫抗氧化性和優(yōu)良高溫?zé)岱€(wěn)定性發(fā)展。涂層成分和結(jié)構(gòu)也隨之更新，其元素組成開始多元化，涂層層數(shù)開始增加，微觀結(jié)構(gòu)由柱狀晶結(jié)構(gòu)趨于納米化。

3.1tiN系涂層

20世紀(jì)80年代，tiN系涂層被成功研制，作為第一個被大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化的刀具涂層，至今仍然被廣泛使用。tiN涂層具有高硬度（Hv2000）、高韌性、化學(xué)穩(wěn)定性好等特點，同時熱膨脹系數(shù)與高速鋼相近，與高速鋼的膜基結(jié)合效果好，在一般的切削、鉆孔、銑削加工中有著很高的價值，制造工藝多為離子鍍[22]。但tiN涂層的抗氧化溫度低于550℃，在此溫度下會形成疏松的tio2，使涂層性能急劇下降，嚴(yán)重影響了tiN涂層的廣泛應(yīng)用。

（1）tiAlN涂層

通過向tiN涂層中添加Al元素形成性能更優(yōu)的tiAlN涂層，與tiN相比，涂層硬度得到提升（Hv2800），摩擦系數(shù)更小，熱導(dǎo)率更低。尤其是高溫抗氧化性得到提升，其抗氧化溫度提升至800℃[23]。利用高溫下產(chǎn)生的Al₂O₃保護膜，可保護涂層不被繼續(xù)氧化[24]。當(dāng)0.5≤x≤0.6時，ti1-xAlxN的力學(xué)性能和熱穩(wěn)定性最好，當(dāng)Al元素的原子數(shù)分?jǐn)?shù)大于70％時，出現(xiàn)的ω-AlN會導(dǎo)致涂層性能急劇下降[25]。圖4為tiAlN涂層表面SeM顯微形貌，可以看出涂層表面均勻致密且光滑。

在快速切削高溫合金等材料時，刀具溫度會升至1000℃以上，這時，tiAlN涂層的性能也不能很好滿足加工需求。為了獲得硬度更高、摩擦系數(shù)更小 高溫下更穩(wěn)定的涂層，國內(nèi)外研究人員通過向tiAlN中加入Si、cr、v、y、zr、la和B等元素提升涂層性能，尤其是抗氧化性和熱穩(wěn)定性[27]。

（2）tiAlSiN涂層

通常認(rèn)為，加入Si元素能提高tiAlN涂層的抗氧化性能和耐磨性能，Si元素可以促進(jìn)Al形成氧化膜保護涂層，延緩銳鈦礦型tio2向金紅石型tio₂轉(zhuǎn)變，減少了疏松tio₂的形成，同時Si元素也能形成氧化層保護刀具。

張而耕等[28]利用多弧離子鍍技術(shù)制備了tiAlN和tiAlSiN涂層，進(jìn)行氧化對比實驗發(fā)現(xiàn)，800℃時tiAlN涂層幾乎完全被破環(huán)，生成tio₂和Al₂O₃且基體元素也發(fā)生氧化；tiAlSiN涂層在800℃時表面保存完整，雖然存在tio₂、Al₂O₃和Sio₂三種氧化物，但并無基體元素氧化物，說明涂層并沒有被完全破壞，并且繼續(xù)升高溫度，tiAlSiN涂層對基體仍然有保護作用。王桂陽[29]通過磁控濺射制備了tiAlN和tiAlSiN涂層，對其性能進(jìn)行對比發(fā)現(xiàn)，薄膜硬度由3700Hv增長到4300Hv，Si原子起到了強化晶界和細(xì)化晶粒的作用。涂層抗氧化溫度也增至900℃，在Al₂o₃保護的基礎(chǔ)上，Si原子在晶界形成的Si₃N₄阻止了氧化進(jìn)一步加深。劉辭海[30]制備了不同Si元素含量的tiAlSiN涂層，并與tiAlN涂層進(jìn)行了切削高溫合金性能對比，圖5為不同刀具涂層切削高溫合金壽命曲線。從圖中可看出，tiAl-SiN涂層刀具的耐磨性及使用壽命明顯優(yōu)于無涂層刀具和tiAlN涂層刀具，其中ti_0.45Al_0.45Si_0.10N涂層刀具的切削性能及壽命最為優(yōu)良。

Morit.等[31]研究表明，與tiAlN相比，通過電弧離子鍍形成的tiAlSiN顯現(xiàn)出了更優(yōu)的抗氧化性和硬度，當(dāng)Si元素的原子數(shù)分?jǐn)?shù)為4.78％時，膜層 硬度提高到35gPa，1000℃在空氣中退火2H后，tiAlSiN薄膜仍然保持完整形貌，對基體刀具起到良好的保護作用。CHenli[32]等在研究Si元素原子數(shù)分?jǐn)?shù)為8％的tiAlSiN涂層時發(fā)現(xiàn)，Si元素提高了涂層的抗氧化能力，tiAlN涂層在830℃時已經(jīng)被完全破壞，在添加Si元素后溫度升至920℃時涂層才出現(xiàn)明顯氧化現(xiàn)象。分析認(rèn)為，Si元素促進(jìn)Al₂o₃形成的同時，抑制了銳鈦礦tio2向金紅石tio2轉(zhuǎn)變，這是涂層耐氧化溫度提高的主要原因。

雖然添加Si元素使tiAlN涂層的硬度、耐磨性以及熱穩(wěn)定性得到提升，并且其綜合切削性能得到大幅提升，但tiAlSiN涂層也存在著較大殘余應(yīng)力且膜基結(jié)合力較差的缺點。通過優(yōu)化涂層結(jié)構(gòu)可以很好地解決上述問題，例如采用多梯度設(shè)計，利用過渡涂層提高膜基結(jié)合力，或者添加其它元素形成多元多層復(fù)合涂層。

（3）tiAlcrN和tiAlzrN

向tiAlN中添加cr元素也能在保證涂層高硬度的同時提高其抗氧化性。王賽玉等[33]研究發(fā)現(xiàn)，tiAlcrN涂層在1000℃時的氧化產(chǎn)物中含有少量的cr₂o_2.4，說明cr元素在氧向涂層內(nèi)部擴散中具有明顯阻礙作用，體現(xiàn)了tiAlcrN涂層優(yōu)異的高溫抗氧化能力。

1000℃氧化后，氧化層內(nèi)部會生成富含Al₂O₃和cr氧化物的氧化層，提高了涂層中貧Al區(qū)的抗氧化性能，并與Al2o3形成（Al，cr）₂O₃，阻止氧向內(nèi)擴散，使添加cr元素后的tiAlN涂層抗氧化能力得到提高。fernanDesf.等[34]通過使用Ｗc鉆頭鉆孔來對比tiAlN涂層和tiAlcrN涂層的切削性能，在100M/Min的測試速度下，tiAlcrN涂層的切削表現(xiàn)明顯優(yōu)于tiAlN涂層。主要原因在于，高溫滑動摩擦過程中形成cr-o摩擦層的潤滑性能優(yōu)于tiAlN涂層形成的

Al、ti氧化物，導(dǎo)致含cr涂層的摩擦性能更加優(yōu)良。xuy.x.等[35]通過直流磁控濺射制備出了tiAlN涂層和不同cr含量的tiAlcrN涂層，對比高溫抗氧化性能發(fā)現(xiàn)，當(dāng)溫度為850℃時，不含cr元素的tiAlN涂層已經(jīng)完全氧化形成多孔氧化皮，而tiAlcrN涂層因為形成了致密、黏附、具有保護性能的氧化層，所以都能承受850℃高溫氧化20H，氧化層中Al和cr元素均勻分布，厚度為0.7μM；當(dāng)溫度升至900℃時，不同含cr元素涂層的抗氧化性能有著顯著的差異，含cr元素較低的涂層ti_0.35Al_0.42cr_0.23N和ti_0.29Al_0.36cr_0.35N已經(jīng)完全被氧化，而含cr元素高的ti_0.26Al_0.33cr_0.41N和ti_0.24Al_0.29cr_0.47N能夠承受900℃高溫氧化20H。SuixuD-ong[36]在此基礎(chǔ)上進(jìn)行了進(jìn)一步實驗，研究發(fā)現(xiàn)，tiAlcrN在600℃和800℃時都無明顯氧化，當(dāng)氧化溫度升至1000℃時，低cr涂層嚴(yán)重氧化而高cr涂層仍保持優(yōu)異的抗氧化性。對低cr涂層ti_0.32Al_0.38cr_0.30N而言，致密富鋁氧化層變?yōu)槭杷刹贿B續(xù)的富鈦鋁氧化層是其抗氧化性差的主要原因。然而，ti_0.17Al_0.19cr_0.64N因其致密且連續(xù)的富鉻氧化層可以很好限制ti原子向表面擴散，同時限制O原子向內(nèi)部擴散。

圖6為ti_0.32Al_0.38cr_0.30N和ti_0.17Al_0.19cr_0.64N在1000℃氧化后的橫截面形貌。

與cr元素相同，zr元素添加到tiAlN涂層中也可以顯著提高涂層的硬度、熱穩(wěn)定性和抗氧化能力。tiAlzrN硬度通常能超過40gPa，并且相較于cr、y、v和Nb元素更加便宜，但是在700～800℃時，tiAlzrN涂層的高溫性能卻會變差，反而溫度升至850℃以上時，其高溫性能會進(jìn)一步大幅提升，優(yōu)于tiAlcrN涂層。

cHenli等[37]研究了添加zrN對tiAlN涂層結(jié)構(gòu)和抗氧化性的影響，發(fā)現(xiàn)在700℃和800℃時，tiAlzrN涂層的抗氧化性能變差，這是因為zr元素對o元素的親和力較高導(dǎo)致抗氧化性降低，且ω-AlN的形成以及沉積態(tài)tiAlzrN涂層晶粒尺寸過小促進(jìn)了氧的擴散；在850℃以上時，含zr元素涂層抗氧化性卻得到良好改善，850℃和900℃氧化10H后的tiAlN涂層已經(jīng)完全氧化，而tiAlzrN顯現(xiàn)出了更好的抗氧化性，zr元素延緩銳鈦礦型tio₂向金紅石型鈦酸鹽轉(zhuǎn)變，并且促進(jìn)了致密Al₂O₃的生成，這些因素過度補償了zr元素對O元素的高親和力以及對ω-AlN的影響，從而提高了涂層的高溫性能。Braicv.等[38]采用陰極電弧技術(shù)在高速鋼鉆頭上沉積了雙層的tiAlN/tiAlzrN涂層，以提高刀具的干切削能力，實驗結(jié)果表明，單層tiAlN和tiAlzrN涂層的鉆頭壽命提高1.5～1.8倍，且tiAlzrN涂層壽命更長，而tiAlN/tiAlzr復(fù)合涂層鉆頭壽命能提高2.1～2.3倍。劉慧君等[39]通過陰極弧蒸發(fā)制備了ti_0.55Al_0.45N、ti_0.45Al_0.48zr_0.07N和ti_0.45Al_0.49cr_0.06N，對比研究了摻雜zr元素和cr元素對tiAlN涂層結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和高溫性能的影響。研究結(jié)果表明，ti_0.55Al_0.45N，ti_0.45Al_0.48zr0_.07N和ti_0.45Al_0.49cr_0.06N涂層的硬度分別為（28.6±0.9）gPa，（31.9±0.9）gPa和（31.±0.9）gPa，ti_0.45Al_0.48zr_0.07N和ti_0.45Al_0.49cr_0.06N的斷裂韌性明顯優(yōu)于ti_0.55Al_0.45N。Ar氣保護氣高溫退火實驗則表明，zr元素的加入使ω-AlN形成溫度由1100℃上升至1200℃，而cr元素的加入使ω-AlN形成溫度降低至1000℃，說明zr元素提高了tiAlN涂層的熱穩(wěn)定性，而cr元素卻降低了熱穩(wěn)定性能，其原因是加入cr元素促進(jìn)了調(diào)幅分解生成的亞穩(wěn)相向其穩(wěn)定相轉(zhuǎn)變。在后續(xù)的高溫氧化實驗中，800℃氧化30H后，ti_0.45Al_0.48zr_0.07N的抗氧化性因為tizro₄的形成而降低，氧化膜厚度約為1.26μM，較ti_0.55Al_0.45N（1.01μM）和ti_0.45Al_0.49cr_0.06N（0.33μM）厚；在850℃氧化30H后，ti_0.45Al_0.48zr_0.07N涂層在其余兩種涂層均完全氧化的狀況下仍保持完整的涂層形貌，并表現(xiàn)出更好的抗氧化性能。圖7為ti_0.55Al_0.45N，ti_0.45Al_0.48zr_0.07N和ti_0.45Al_0.49cr_0.06N涂層在850℃氧化30H后的橫斷面形貌。

3.2 稀土元素的影響

稀土元素在傳統(tǒng)表面改性中起重要作用，能有效提高表面硬度、耐磨性、疲勞強度、膜基結(jié)合力以及高溫性能。因此在制備過程中，硬質(zhì)合金刀具涂層可以以固態(tài)稀土靶材的形式引入稀土元素。目前，國內(nèi)外在刀具涂層中主要引入y元素和ce元素，原因是二者原子半徑幾乎相等，性質(zhì)基本相同。

劉大勇[40]和王寶健[41]通過添加稀土元素ce提高了tiAlN涂層性能，膜基結(jié)合力提高5～10N，磨損試驗中磨痕寬度相應(yīng)減少，耐磨性提高，高溫試驗則表明稀土元素ce明顯提升了涂層的抗氧化性，ce元素優(yōu)先與氧結(jié)合形成致密氧化物，阻礙氧擴散；同時ce元素固溶于Al₂o₃中，提高了其附著能力，因此切削過程中含ce元素涂層的壽命提升20％。Ｑiaz.B.等[42]采用復(fù)合靶濺射制備zryN涂層，其原因是y元素與作為活性元素的o元素的高親和力可以有效提高涂層的抗氧化性。S.DoMínguez-Meister等[43]通過物理氣相沉積法沉積的cr1-xAlxN涂層在高溫環(huán)境下會生成致密且黏附的Al和cr₂o的混合氧化皮，能夠極好地抑制o元素向涂層內(nèi)部擴散，即便Al元素含量較低時，也能在900℃的溫度下提供優(yōu)良的抗氧化性。同時，向其中引入y元素能夠大幅提高在極限溫度以上的耐熱性和抗氧化性，使分解開始溫度提高至1100℃。liuSHiyu等[44]研究發(fā)現(xiàn)，在800℃時，crA-lyN涂層的氧化層主要由cr₂o₃組成，且當(dāng)y元素的摻雜水平為0.5％時，具有最好的抗氧化性；在1100℃時，氧化層為cr₂o₃和Al₂o₃競爭生長，當(dāng)y元素的摻雜水平為2％時，具有最好的抗氧化性；但隨著y元素含量增加，涂層的硬度開始降低，這與氮化鋁和氮化鉻界面形成的半非結(jié)晶層有關(guān)。

3.3多層涂層

雖然多元涂層能夠明顯提升刀具的切削性能，但是多元涂層與硬質(zhì)合金基體的結(jié)合力往往很低，很容易導(dǎo)致涂層過早失效，設(shè)置過渡層可緩沖應(yīng)力和阻斷應(yīng)力。多元多層結(jié)構(gòu)不僅可以解決膜基結(jié)合力低的問題，并且能結(jié)合不同涂層的特點，使涂層的硬度、韌性、抗高溫性能和耐磨性均優(yōu)于單層涂層。

鐘星[45]制備的AlcrN/AlcrSi（y）N多層涂層經(jīng)過1100°c恒溫氧化2H后發(fā)現(xiàn)，其多層納米涂層的抗氧化性能均優(yōu)于單層的AlcrN、AlcrSiN和Al-cryN涂層。肖白軍[46]利用電弧離子鍍的方法制備了AlcrN/AltiSiN多層涂層，在鈦合金切削實驗中，相比AlcrN和AltiSiN涂層刀具，多層涂層刀具切削力和切削溫度最小，表面加工質(zhì)量最好，并且使用壽命提高兩倍以上，因此多層結(jié)構(gòu)明顯提高了涂層的熱穩(wěn)定性和抗氧化性，AlcrN/AltiSiN多層涂層在1100℃才析出弱化相ω-AlN，相比單層涂層提高了200℃。liguoDong等[47]為了提高硬質(zhì)合金刀具tiAlSiN涂層在切削加工inconel718鎳基高溫合金時的性能，引入ti元素作為中間層制備多層涂層（tiAlSiN為8層，每層厚度270nM，ti為7層，相互交替，表面為tiAlSiN）。如圖8所示，ti層的引入顯著改善了tiAlSiN涂層的高脆性，改善程度隨ti層厚度變化而變化，當(dāng)ti層厚度為25nM時韌性最佳，切削實驗也表明，ti層的引入使涂層表現(xiàn)出更好的切削性能，多層結(jié)構(gòu)明顯提升了涂層韌性，減輕了inconel718合金加工時析出硬質(zhì)相帶來連續(xù)沖擊載荷的影響，提高了涂層壽命。

為&nbsP;了提高tiAlN涂層在高溫快速切削時的性能，zHangＱuan等[48]交替沉積了AltiN/AlcrSiN多層膜，AltiN/AlcrSiN多層涂層呈面心立方結(jié)構(gòu)，具有細(xì)小柱狀晶。相比tiAlN涂層在800℃的劇烈氧化，AltiN/AlcrSiN多層涂層在800℃幾乎沒有氧化層，當(dāng)加熱至1000℃時才形成0.3μM致密氧化膜，并且在高速干式切削中，AltiN/AlcrSiN多層涂層使用壽命也有所提高。

4、結(jié)語

本文從涂層制備方法和涂層種類兩個方面歸納總結(jié)切削高溫合金用涂層，分析總結(jié)了制備方法和涂層性能在國內(nèi)外的研究現(xiàn)狀。在切削高溫合金的復(fù)雜工況中，高硬度與高耐磨性僅是刀具涂層能正常使用的基礎(chǔ)，而高溫抗氧化性與熱穩(wěn)定性才是刀具涂層的切削效率和使用壽命的決定性因素。

目前，可以從以下幾點出發(fā)來提高涂層的熱穩(wěn)性。

（1）摻雜與o元素親和力高的元素（例如Si、cr、zr和y元素等），生成致密氧化膜保護基體的同時，抑制了ω-AlN相和tio₂等疏松氧化相的形成。

（2）引入過渡涂層，制備多層梯度涂層，并使單層涂層厚度趨于納米化，汲取各單層涂層的優(yōu)點，在提升膜基結(jié)合力的同時提升涂層的高溫性能。

（3）改進(jìn)涂層制備技術(shù)，結(jié)合各種技術(shù)優(yōu)點，研發(fā)新型復(fù)合沉積技術(shù)，制備出具有納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的超硬耐高溫涂層。

總體來說，切削高溫合金用涂層的設(shè)計正朝著多元多層的方向發(fā)展，且各單一膜層的厚度也趨于納米化。同時，結(jié)合制備技術(shù)來提升涂層性能也是 究熱點之一。此外，突破現(xiàn)有理論框架，開發(fā)新型超硬耐高溫涂層也是未來研究的熱門方向。

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第一作者：季思源，碩士研究生，西華大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院，610000成都市

firstautHor：Ｊisiyuan，postgraDuate，collegeofMaterialsscienceanDengineeringofxiHuauniversity，ChengDu610000，cHina

通信作者：萬維財，副教授，西華大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院，610000成都市

corresponDingautHor：ＷanＷeicai，associateprofessor，col-legeofMaterialsscienceanDengineeringofxiHuauniversity，ChengDu610000，china

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